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不同制冷剂、清洗剂的性能和应用场景

  2022-10-09
  清洗、制冷行业与人们生产和生活实践密切相关。随着社会的发展和科技的进步,电子信息行业发展迅猛,人们对电子相关行业提出了更高的要求:精确、稳定、轻巧、可靠等,同时需要提供良好的清洗和降温条件。电子元器件、精密元件等电子信息产品,他们当然也需要“洗澡”“降暑”,并且对清洗剂和制冷剂提出了更高的要求,如能效高、安全低毒、无污染等,氢氟醚(HFE)系列氟化液堪此重任,对HFE氟化液的研究也成为社会、企业界和学术界关注的热点。
  01/ 氟化液的性能
  HFE氟化液是氢氟醚类的氟溶液,用于锂电池添加剂、润滑油的溶剂、反应溶剂、制冷剂、清洗剂等领域。
  HFE氟化液能够“担任”对电子元器件、精密元件等电子信息产品进行清洗和制冷“大任”除了安全环保、低全球暖化潜势(GWP),还有优异的性能,具体如:
  安全方面:无毒,不燃、无闪点;
  环境方面:臭氧消耗潜能值(ODP)为0,低全球暖化潜势(GWP)系数、大气寿命短,满足环保法规的要求,是CFC、HCFC、HFC 和 PFC的最佳替代品之一。
  性能方面:表面张力低、低粘度;高密度;适中的溶解力;优秀的电气绝缘性能;优秀的导热性;不燃、无闪点;热稳定性、化学稳定性。
  下面介绍在电子元器件、精密元件等电子信息产品领域,HFE氟化液中的“清洗大将”HFE氟化液D3、“制冷大将”HFE氟化液D4。
  02/ “清洗大将”—HFE氟化液D3
  HFE氟化液D3堪担电子元器件、精密元件等电子信息产品的“清洗大将”,可作为单一纯溶剂清洗,也可与碳氢清洗剂结合。
  作为单一纯溶剂进行清洗,具有优秀的干燥性能;优秀的材料兼容性;不具可燃性等。
  具体应用举例:CCD、CMOS传感器等电子设备的除尘(清除颗粒);半导体生产装置零件、腔体的清洗;颗粒的擦除清洗;印刷零件压膜后的清洗。
  与碳氢清洗剂结合,共溶系统实现了清洁装置的不燃化,因此可控制着火的危险性;清洗后无残留,品质更高;干燥时的温度偏低,对工件的热冲击较小;优秀的材料兼容性;表面张力低,可渗透清洗并干燥工件的细微结构。
  具体应用举例:液晶模块、面板的清洗;精密加工零件的硅油清洗、干燥;航空机零件的切削油去除清洗。
  03/ “制冷大将”——HFE氟化液D4
  在冷却、热交换控温用途中,在半导体线宽日益细化的过程中,对用于导热和控温的冷媒的要求更高,更多样化。
  HFE氟化液D4堪担电子元器件、精密元件等电子信息产品领域“制冷大将”。可作为半导体等生产装置冷媒,具有优秀的电气特性;可选温度范围广;没有沉淀物;不燃性等。
  具体应用举例:干法蚀刻装置;光刻;离子喷射器;探头;IC测试器等。
来源:互联网 | 编审:邓君梅
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